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C-25X(4寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
2020-03-02
⒈ 本機針對各大專院校、企業及科研單位,對光刻機使用特性研發的一種高精度光刻機。
⒉ 由于本機找平機構先進,找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、
銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片
的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
C-31(4寸)高精度雙面光刻機
高精度雙面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構,使本機不僅適合硅片、玻璃...
C-43(4寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構,使本機不僅適合硅片、玻璃...
C-25A(6寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。 由于本機找平機構先進,找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、 銅片、不銹鋼片、寶...
C-33(4寸)高精度雙面光刻機
高精度雙面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構,使本機不僅適合硅片、玻璃...
C-25(4寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
主要用途 ⒈ 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。 ⒉ 由于本機找平機構先進,找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、 銅片、不銹鋼...
C-43A(9寸)高精度單面光
高精度單面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構,使本機不僅適合硅片、玻璃...
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