SJI-2勻膠機
操作流程
★真空吸附開關：按下可開啟貨關閉真空
★電機啟動開關：按下可控制電機開啟或關閉
★實際轉速顯示：實時顯示當前轉速
★設定轉速顯示：設定轉速顯示
★設定轉速滑塊：拖動滑塊可設定轉速
★電機狀態顯示：顯示電機開啟或關閉
★真空狀三：清洗及日常維護
注意事項
每次使用完勻膠機后，請取下片托，如發現氣孔內有進膠的情況，請用滴管在氣孔內滴酒精或丙酮至稍微溢出，浸泡 5 分鐘后，打開氣泵抽干氣路。
屬于下列情況之一的，需要對抽氣室進行清洗
★正常使用三個月的
★膠被吸入抽氣室的
★電機轉速不穩定或被卡住轉不動的。尤其是膠被吸入抽氣室，必須立即取下片托和光碼盤進行清洗。
保修范圍
★非人為損壞享受一年
★請勿旋涂具有強烈腐蝕性(酸，堿，鹽)的溶液，如需旋涂請務必選用抗腐蝕配件。
★請務必注意：膠進入電機長時間不清洗會造成電機永久性損壞。
C-25X（4寸）高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
2020-03-02
⒈ 本機針對各大專院校、企業及科研單位，對光刻機使用特性研發的一種高精度光刻機。
⒉ 由于本機找平機構先進，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、
銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片
的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
C-31(4寸)高精度雙面光刻機
高精度雙面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構，使本機不僅適合硅片、玻璃...
C-43(4寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構，使本機不僅適合硅片、玻璃...
C-25A(6寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。 由于本機找平機構先進，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、 銅片、不銹鋼片、寶...
C-33(4寸)高精度雙面光刻機
高精度雙面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構，使本機不僅適合硅片、玻璃...
C-25(4寸)高精度單面光刻機
高精度單面光刻機
主要用途 ⒈ 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。 ⒉ 由于本機找平機構先進，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、 銅片、不銹鋼...
C-43A（9寸）高精度單面光
高精度單面光刻機
主要用途 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。 由于本機有特殊的找平機構，使本機不僅適合硅片、玻璃...
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